Кремний карбиді жабыны

VeTek ұсынған бұл AMAT 0200-03201 вафельді көтергіш түйреуіш жоғары таза графиттен басталады, содан кейін үстіне тығыз CVD SiC жабынын қосамыз. Ол 300 мм эпитаксистік жүйелер мен қолданбалы материалдар EPI реакторлары үшін жасалған. Неліктен графит және SiC? Графит жылуды жақсы ұстайды. SiC қабаты коррозиялық газдарды қабылдайды және тез тозбайды. Жұқа қабырға дизайны? Бұл вафельді таза көтеру және орналастыру, аз бөлшектер және жоғары температура кезінде бөліктің ұзақ қызмет ету мерзімі үшін. Біз сондай-ақ ASM, Aixtron және LPE жүйелері үшін SiC қапталған ұқсас графит бөлшектерін жасаймыз. Сіздің сұрауыңызды күтеміз.

Vetek Semiconductor VEECO MOCVD жүйелері үшін вафельді тасымалдағыштарды жасайды, олар GaN жарықдиодтары, көк-жасыл жарықдиодтар және терең ультракүлгін жарықдиодты өсу сияқты жарықдиодты эпитаксистік жұмыс үшін арнайы жасалған. Бұл тасымалдаушылар жоғары таза графиттен басталады және тығыз CVD кремний карбиді (SiC) жабын алады. Бұл комбинация MOCVD-де көретін жоғары температурада жақсы сақталады – жақсы термиялық тұрақтылық, коррозияға төзімділік және жабын ұзаққа созылады.

Жарты ай - LPE SiC реакторларында қолданылатын графит құрамдас бөлігі, негізінен камераның ыстық аймағына орнатылады. Ол пластинамен тікелей байланыспаса да, эпитаксиалды өсу кезінде газ ағынының тұрақтылығында және реактор жұмысында рөл атқарады. Жоғары температура мен реактивті процесс жағдайларын өңдеу үшін компонент әдетте CVD SiC жабынымен қорғалады, ал TaC жабыны кейбір қолданбалар үшін де қолжетімді. VETEK сонымен қатар SiC эпитаксистік жүйелері үшін графит киізді оқшаулауды және басқа да қапталған графит бөлшектерін жеткізеді.

8 дюймдік SiC epi жоғарғы сақина жартылай өткізгіш реакторларға арналған аппараттық бөлік болып табылады. Ол Si/SiC эпитаксисі және MOCVD/CVD жүйелерінде жұмыс істейді. Бұл сақина камераның ішіндегі жылуды тұрақтандырады. Ол сонымен қатар газдардың ағынын басқарады. Материал жоғары таза CVD кремний карбиді. Онда графиттің газды шығаратын мәселелері жоқ. Ол сондай-ақ өндіріс кезінде бөлшектердің ластануын азайтады. Сіздің сұрауларыңызды құптаймыз.

VETEK MOCVD SiC қапталған қабылдағыш - жарықдиодты және құрама жартылай өткізгіш эпитаксиалды өсу үшін арнайы әзірленген дәлдікпен жасалған тасымалдаушы шешім. Ол күрделі MOCVD орталарында ерекше термиялық біркелкі және химиялық инерттілікті көрсетеді. VETEK-тің қатаң CVD тұндыру процесін пайдалана отырып, біз жартылай өткізгіштер өндірісінің әрбір партиясы үшін тұрақты және сенімді өнімділікті қамтамасыз ете отырып, пластинаның өсуінің консистенциясын жақсартуға және негізгі компоненттердің қызмет ету мерзімін ұзартуға ұмтыламыз.

Veteksemicon қатты кремний карбиді (SiC) фокустау сақинасы - плазманың таралуын, термиялық біркелкілігін және пластинаның жиектерінің әсерлерін дәл бақылау маңызды болатын жетілдірілген жартылай өткізгіш эпитаксия және плазмалық ою процестерінде қолданылатын маңызды тұтынылатын компонент. Тазалығы жоғары қатты кремний карбидінен жасалған бұл фокустау сақинасы плазмалық эрозияға ерекше төзімділікті, жоғары температура тұрақтылығын және химиялық инерттілікті көрсетеді, бұл агрессивті процесс жағдайында сенімді жұмыс істеуге мүмкіндік береді. Біз сіздің сұрауыңызды күтеміз.