Технология және шешімдер

Кейс зерттеулері

Сумен басқарылатын лазерлік технология: SiC субстраттарына арналған дәл микро саңылауларды өңдеу
01

Сумен басқарылатын лазерлік технология: SiC субстраттарына арналған дәл микро саңылауларды өңдеу

VeTek-тің сумен басқарылатын лазерлік технологиясы 2 мм SiC субстраттарында конустықсыз, минималды HAZ және жартылай өткізгіштерді қолдану үшін жоғары өнімділікпен біркелкі Φ0,15 мм саңылауларды қалай беретінін біліңіз.
Қосымша көру
VETEK-AMAT қуыс көтергіш түйреуіш шешім: CVD SiC жабыны бар жоғары таза графит субстрат
02

VETEK-AMAT қуыс көтергіш түйреуіш шешім: CVD SiC жабыны бар жоғары таза графит субстрат

Жартылай өткізгішті жабдықтың қуыс көтеру түйреуіштері үшін ең күрделі техникалық мәселе сыртқы бетті жабу емес, қуыс құрылымның ішкі қабырғасында тұрақты және біркелкі CVD жабынына қол жеткізу болып табылады. Ішкі қабырға жабынының біркелкілігін бақылаудан бастап ішкі саңылаулардың тазалығын қамтамасыз етуге дейін процестің әрбір қадамы пластинаның шығымына тікелей әсер етеді. Бұл мақалада қуыс көтеру түйреуіштерінің ішкі қабырғаларын жабудың негізгі қиындықтары және негізгі техникалық жолдар талданады.
Қосымша көру
X
Біз cookie файлдарын сізге жақсырақ шолу тәжірибесін ұсыну, сайт трафигін талдау және мазмұнды жекелендіру үшін пайдаланамыз. Осы сайтты пайдалану арқылы сіз cookie файлдарын пайдалануымызға келісесіз. Құпиялылық саясаты
ҚабылдамауҚабылдау