Өнімдер

Ветек Жартылай өткізгіштің CWD CWD Ceic Ceible-де жоғары температураға төзімділік, коррозияға төзімділік, жоғары қаттылық, жоғары қаттылық және жылу кеңейту коэффициенті, оны жартылай өткізгіш өндірісінде тамаша материалдық таңдау жасайды. Қытай жетекші CVD-ді жетекші CEIM жабылған төбе өндірушісі және жеткізушісі ретінде Ветек жартылайдақтары сіздің кеңесіңізді күтеді.

Ветек Жартылай өткізгіш - бұл Қытайдағы Mocvd Leed EPI Succeptor компаниясының кәсіби өндірушісі. Біздің MOCVD LED EPI Succeptor Epitaxial жабдықтарын талап етуге арналған. Оның жоғары жылу өткізгіштігі, химиялық тұрақтылық пен беріктік эпитаксиальды өсудің тұрақты процесі мен жартылай өткізгіш кино өндірісінің негізгі факторлары болып табылады.

SIC жабыны ALD Susceptor - бұл атомдық қабаттардың тұндыруында (ALD) қолданылатын қолдау компоненті. Ол ALD жабдықтарында шешуші процестің біркелкілігі мен дәлдігін қамтамасыз ете отырып, басты рөл атқарады. Біздің ALD Planetary сезімталды өнімдеріміз сізге сапалы өнімнің жоғары сапалы шешімдерін әкелуі мүмкін деп санаймыз.

Vetek жартылай өткізгіштің TAC жабындысы түтігі кремний карбидінің жалғыз кристалдарының сәтті өсуіне арналған негізгі компонент болып табылады. Жоғары температураға төзімділігі, химиялық инерстері және керемет өнімділігі, бұл дәйекті нәтижелері бар жоғары сапалы кристалдардың өндірілуін қамтамасыз етеді. PVT әдісі SIC Crystal өсу процесін жақсарту және керемет нәтижелерге қол жеткізу үшін біздің инновациялық шешімдерімізге сеніңіз. Бізге жақсы нәтижелерге қол жеткізіңіз.

Ветек жартылайдюстор вафлиді өңдеу технологиясында, трансферті және басқа сілтемелерде кеңінен қолданылатын кеуекті Sic Ceram Ceric ұсынады, байланыстыру, жазылу, патч, жылтырату, жылтырату, жылтырату және басқа сілтемелер, лазерлік өңдеу. Біздің кеуекті Sic Ceram Cheric Chuck Ultra күшті вакуумдық адсорбциясы, жоғары тегістік және жоғары тазалық көп жартылай өткізгіш салалардың қажеттіліктерін қанағаттандырады.

VeTek Semiconductor компаниясының CVD SiC қапталған RTP сенсоры жартылай өткізгіш өндірісінде қолданылатын жылдам термиялық өңдеу (RTP) және жылдам термиялық күйдіру (RTA) жабдықтарына қызмет етеді. Субстрат жоғары таза изостатикалық графиттен өңделеді, оның үстіне тығыз CVD кремний карбиді (SiC) қабаты салынады. Бұл конструкция жоғары жылу өткізгіштік, берік химиялық инерттілік және қайталанатын жоғары температура циклі кезінде тұрақты өлшемдік тұрақтылықты береді.