CVD SIC жабыны баррель Сусептор

Эпитаксидің өсуі - бір кристалды пленканы (жалғыз кристалды қабат) бір кристаллдық субстратқа (субстрат) өсіру процесі. Бұл бір кристалды пленка эпилейер деп аталады. Эпилайер мен субстрат бір материалдан жасалған кезде, оны гомоепитациялық өсу деп атайды; Олар әр түрлі материалдардан жасалған кезде, оны гетероепитацитациялық өсу деп атайды.

Эпитаксиальды реакция камерасының құрылымына сәйкес екі түрі бар: көлденең және тік. Тік эпитаксиалды пештің сезімталдығы жұмыс барысында үздіксіз айналады, сондықтан ол біркелкілік пен үлкен өндіріс көлеміне ие, сондықтан оның біркелкілігі мен үлкен көлеміне ие және Epitaxial өсуінің негізгі шешімі болды. Және Ветек жартылай өткізгіш - SIC жабылған графит баррельді сорғыштардың ЭПИ өндірістік сарапшысы.

MOCVD және HVPE сияқты эпитаксиалды өсу жабдықтарында, мысалы, MOCVD және HVPE, SIC жабылған графитті сорғыштар, өсу процесінде тұрақты болып қалу үшін вафлиді бекіту үшін қолданылады. Вафли бөшке түріндегі балық сезіміне орналастырылған. Өндіріс жалғасуда, Сусептурасы вафлиді біркелкі қыздыру үшін үздіксіз айналады, ал вафлидің беті реакция газ ағынына ұшырайды, сайып келгенде, біркелкі эпитаксиальды өсуіне қол жеткізіледі.

CVD SIC жабыны баррель типі Сусептурасы Схемалық

Эпитаксиальды өсу пеші - бұл коррозиялық газдармен толтырылған жоғары температуралық орта. Мұндай қатал ортаны жеңу үшін Ветек жартылайдюсторы CVD әдісі бойынша графит баррельді сорғыштарға SIC жабынының қабаты, осылайша SIC қапталған графит баррельді сезімталды

Құрылымдық ерекшеліктері:

●  Температураның біркелкі таралуы: Бөшке тәрізді құрылымы жылуды біркелкі таратып, жергілікті қызып кету немесе салқындату салдарынан вафлидің күйзелісіне немесе өзгеруіне жол бермейді.

●  Ауа ағынының бұзылуын азайту: Бөшке тәрізді сезімталды сезімкәсіптік гипсептордың дизайны ауа ағынының реакция камерасына таратуды оңтайландырады, бұл газдың вафлидің беткі және біркелкі эпитаксикалық қабатын құруға мүмкіндік береді.

●  Айналу механизмі: Бөшке тәрізді сезімталның айналу механизмі эпитаксиальды қабаттың қалыңдығы мен материалдық қасиеттерін жақсартады.

●  Ірі өндірісі: Бөшке тәрізді сезімталды, алайда, 200 мм немесе 300 мм вафли, мысалы, ауқымды жаппай өндіріске жарамды.

Ветек жартылай өткізгіш CVD баррелі баррельді ұсатқышы Суспентігі Сусептурасы жоғары тазалық графитінен және CVD-дің жабынынан тұрады, бұл сезімталдыққа ұзақ уақыт бойы коррозиялық газ ортасында жұмыс істеуге мүмкіндік береді және жақсы жылу өткізгіштік пен тұрақты механикалық қолдауға ие. Вафлидің біркелкі жылытылып, нақты эпитаксиалды өсуіне көз жеткізіңіз.

CVD-дің негізгі физикалық қасиеттері

CVD-дің негізгі физикалық қасиеттері
Мүлік	Типтік құндылық
Кристалл құрылымы	FCC β PolycryStalline фазалық фазалық, негізінен (111)
Тығыздық	3.21 г / см³
Қаттылық	2500 виккердің қаттылығы (500 г жүктеме)
Астық мөлшері	2 ~ 10 мм
Химиялық тазалық	99,99995%
Жылу сыйымдылығы	640 ЖҰГ-1· K-1
Сублимация температурасы	2700 ℃
Иілгіш күш	415 MPA RT 4 нүктесі
Жас модуль	430 GPA 4PT иілу, 1300 ₸
Жылу өткізгіштік	300 Вук-1· K-1
Жылу кеңеюі (CTE)	4.5 × 10-6K-1

Ветек жартылай өткізгіш CVD-ді SIC жабыны баррельі Сусептор