Монокристалды кремний үшін кремшікті

CZ (Czochralski) әдісінде бір кросталь монокристалды тұқымды балқытылған поликристалды кремниймен байланыстыру арқылы өсіріледі. Тұқым баяу бұрылып, біртіндеп жоғары қарай тартылады. Бұл процессте графит бөліктерінің едәуір бөлігі пайдаланылады, бұл оны кремний жартылай өткізгіштеріндегі графит компоненттерінің ең көп мөлшерін қолданады.

Дұрыс сурет CZ әдісі негізінде кремнийдің бір кристалды өндіріс пешінің схемалық бейнесін ұсынады.

Ветек жартылайдюсторының монокристалды кремний үшін кристалды кристалдардың тұрақты және бақыланатын ортасын берік және бақыланатын орта береді. Олар электронды құрылғыларға арналған жоғары сапалы материалдарды өндіру үшін өте маңызды, мысалы, цочральск процесі және қалқымалы аймақтық әдістерді қолдана отырып, монокристалды кремний құймаларында инструменталды.

Көрнекті жылу тұрақтылығы, химиялық коррозияға қарсы тұрақтылығы, минималды жылу кеңеюі үшін, бұл крестілеулер беріктік пен беріктіктің беріктігін қамтамасыз етеді. Олар құрылымдық тұтастыққа немесе өнімділігіне зиян келтірместен қатал химиялық ортаға қарсы тұруға арналған, осылайша креслиттің өмір сүру ұзақтығын ұзартып, ұзақ уақыт пайдаланылуына сәйкес келеді.

Монокристалды кремнийге арналған Ветек жартылай өткізгіштерінің бірегей құрамы оларға жоғары температуралы өңдеудің төтенше жағдайларына төтеп беруге мүмкіндік береді. Бұл жартылай өткізгішті өңдеуге өте маңызды, жылу тұрақтылығы мен тазалығына кепілдік береді. Композиция сонымен қатар жылу беруді жеңілдетеді, біркелкі кристалдануды және кремний балқымасындағы жылу градиенттерін азайтуға ықпал етеді.

✔ Негізгі материалды қорғау::CVD SIC жабыныЭпитаксиальды процестер кезінде қорғаныс қабаты ретінде әрекет етеді, негізгі материалды эрозиядан және сыртқы ортадан зақымдан тиімді қорғайды. Бұл қорғаныс шарасы жабдықтың қызмет ету мерзімін ұзартады.

✔ Тамаша жылу өткізгіштік: Біздің CVD-дің SIC жабыны бақыланған жылу өткізгіштікке ие, негізгі материалдан жабық материалдан ыстықты жабуға арналған бетке береді. Бұл эпитакси кезінде жылу менеджменті тиімділігін арттырады, жабдықтың оңтайлы жұмысының температурасын қамтамасыз етеді.

✔ Жақсартылған фильм сапасы: CVD-дің жабыны тегіс және біркелкі бетті қамтамасыз етеді, кино өсіру үшін тамаша негіз жасайды. Бұл тордың сәйкес келмеуінен туындаған ақауларды азайтады, эпитаксиальды пленканың кристалысы мен сапасын жақсартады, сонымен бірге оның жұмысы мен сенімділігін жақсартады.