AMAT Cover Top Quartz 8 дюймдік PCII

AMAT Cover Top Quartz 8 дюймдік PCII (бөлік № 0200-00218) 200 мм (8 дюйм) PVD технологиялық камераларында пайдалануға арналған, Applied Materials Endura® платформасымен (PCII камерасы) арнайы үйлесімді жоғары таза кварц құрамдас бөлігі болып табылады.

Өте жоғары таза балқытылған кварцтан жасалған бұл компонент ластануды азайту және плазманың тұрақты әрекетін қамтамасыз ету арқылы таза және тұрақты тұндыру ортасын сақтауда маңызды рөл атқарады.

Vetek Semiconductor компаниясында біз материалды қатаң бақылаумен және өлшемдік дәлдікпен дәлме-дәл құрастырылған кварц бөлшектерін ұсынып, жартылай өткізгіш зауыттар мен жабдыққа қызмет көрсетушілер үшін сенімді баламаларды ұсынамыз.

Негізгі спецификациялар:

Өтініш процесі және палатаның орны

Бұл кварц жабыны алюминий (Al), титан (Ti) және мыс (Cu) сияқты металдың жұқа қабықшасын тұндыру үшін жартылай өткізгіш өндірісінде кеңінен қолданылатын PVD шашырату процестеріне арнайы әзірленген.

Палатаның позициясы

Компонент PVD камерасының жоғарғы бөлігінде орнатылады, әдетте жоғарғы қақпақ аймағы деп аталады, онда ол мыналарға ұшырайды:

● Плазмалық разряд аймақтары

● Өңдеу газ ағынының жолдары

● Металл бөлшектерінің тұндыру орталары

Палатадағы функционалдық рөл

Камера құрылымында Cover Top кварц пластинаның үстінде және мақсатты аймаққа жақын орналасқан металл емес қорғаныс тосқауыл және оқшаулағыш элемент ретінде қызмет етеді.

Оның орналасуы келесілер үшін маңызды:

● Сезімтал камераның құрамдас бөліктерін металл шөгінділерінен қорғау

● РЖ плазмалық орталарында электрлік оқшаулауды сақтау

● Тұрақты және қайталанатын процесс шарттарын қолдау

Негізгі функциялар және өнімділік артықшылықтары

1) Контаминацияны бақылау

PVD процестері кезінде шашыраған металл атомдары пластинкаларға ғана емес, сонымен қатар камераның ішкі беттеріне де шөгеді.

Бұл кварц қақпағы:

● Құрбандық қорғаныс қабаты ретінде әрекет етеді

● Критикалық камера құрылымдарында металл жиналуын болдырмайды

● Бөлшектердің пайда болуын және айқаспалы ластануды азайтады

Нәтиже: Вафли шығымы және процесс тазалығы жақсарды

2) Плазма тұрақтылығы және электрлік оқшаулау

Тамаша диэлектрлік қасиеттерінің арқасында жоғары тазалықтағы кварц мыналарды қамтамасыз етеді:

● Тұрақты РЖ өрісінің таралуы

● Электрлік кедергілер қаупін азайтады

● Процесс циклдері бойынша тұрақты плазма тығыздығы

Нәтиже: жақсартылған пленка біркелкілігі мен қайталану мүмкіндігі

3) Жоғары материал тазалығы

Vetek Semiconductor қоспаның түсуін азайту үшін ультра жоғары тазалықтағы кварц материалдарын пайдаланады.

● Төмен металл ластануы

● Вакуум жағдайында минималды газ шығару

● Жетілдірілген жартылай өткізгіш түйіндер үшін қолайлы

Нәтиже: Фаб деңгейіндегі қатаң тазалық стандарттарына сәйкес келеді

4) Өте жақсы плазмалық және термиялық төзімділік

Компонент төтеп беру үшін жасалған:

● Плазма эрозиясы және иондық бомбалау

● Қайталанатын термиялық цикл

Нәтиже: қызмет ету мерзімі ұзарады және техникалық қызмет көрсету жиілігі азаяды

5) Шығынды үнемдейтін дизайн

Ауыстырылатын камераның шығын материалы ретінде бұл бөлік:

● Қымбат камералық жабдықты қорғайды

● Техникалық қызмет көрсету циклдерін жеңілдетеді

● Жалпы иелену құнын төмендетеді (TCO)

Неліктен Vetek Semiconductor таңдау керек?

Vetek Semiconductor компаниясында біз жоғары өнімді кварц компоненттерін жеткізу үшін материалтану тәжірибесін жартылай өткізгіш процесті түсінумен біріктіреміз.

Біздің артықшылықтарымыз:

● Тығыз рұқсаттармен дәл өңдеу

● Шикізатты қатаң таңдау және қадағалау

● AMAT Endura платформаларымен дәлелденген үйлесімділік

● Жаһандық жартылай өткізгіш тұтынушылар үшін тұрақты жабдықтау

● Теңшеу және оңтайландыру үшін инженерлік қолдау