Кеуекті сиктік керамикалық табақ

Кеуекті Sic керамикалық тақтайшасы - бұл жасалған кеуекті құрылымды керамикалық материалкремний карбидінегізгі компонент ретінде және арнайы біріктірілген процеспен бірге. Оның кеуектілігі бейімделеді (әдетте 30% -70%), ол тері мөлшерін бөлу біркелкі, ол өте жоғары температураға төзімділігі, химиялық тұрақтылыққа ие және жартылай өткізгіштермен, химиялық буынды (CVD), жоғары температуралы газды сүзу және басқа да өрістерде кеңінен қолданылады.

Кеуап бір кеуекті керамикалық тақтайша туралы қосымша ақпарат алу үшін осы блогты қараңыз.

Кеуекті Sic Ceramic DishТамаша физикалық қасиеттер

● Жоғары температураға төзімділік:

SIC керамикасының балқу нүктесі 2700 ° C-тан жоғары, ал 1600 ° C-тан жоғары, бұл әлі күнге дейін дәстүрлі алюминий керамикасынан (шамамен 2000 ° C) жоғары, әсіресе жартылай өткізгіш жоғары температура процестеріне жарамды.

● Тамаша термиялық басқарудың өнімділігі:

✔ Жоғары жылулық өткізгіштік: тығыз ӘИЖ жылу өткізгіштігі шамамен 120 Вт / (Мықты). Кеуекті құрылым жылу өткізгіштігін азайтады, бірақ ол көптеген керамикаға қарағанда едәуір жақсы және тиімді жылу таратуды қолдайды.

✔ Төмен жылу кеңейту коэффициенті (4,0 × 10⁻⁶ / ° C): жылу стрессінен туындаған құрылғының ақауларынан аулақ болуға мүмкіндік бермейді.

● Жақсы химиялық тұрақтылық

Қышқыл және сілтілі коррозияға төзімділік (әсіресе HF ортасында ерекше), температураның жоғары тотығуына төзімділік, мысалы, тазалау және тазарту сияқты қатал ортаға қолайлы.

● көрнекті механикалық қасиеттері

✔ Жоғары қаттылық (9.2 қаттылық, тек алмазға дейін, тек алмазға дейін), қатты тозуға төзімділік.

✔ Иілу күші 300-400 МПа жетуі мүмкін, ал тері құрылымының дизайны жеңіл және механикалық беріктігілерді ескереді.

● Кеуекті кеуекті құрылым

✔ Жоғарыға арналған жоғары беткі ауданы: газ диффузиялық тиімділігін арттыру, реакция газ тарату тақтасы ретінде жарамды.

✔ Бекітілетін кеуектілік: сұйықтықты және сүзу өнімділігін оңтайландырыңыз, мысалы, CVD процесінде бірыңғай пленкалық қалыптастыру.

Жартылай өткізгіш өндірісінде ерекше рөл

● Жоғары температура процесін қолдау және жылу оқшаулау

Вафли табақшасы ретінде ол металл ластануын болдырмас үшін диффузиялық пештер мен тазарту пештері сияқты жоғары температуралы жабдықта (> 1200 ° C) қолданылады.

Кеуекті құрылымда жылу жоғалуын азайту, оқшаулау және қолдау функциялары бар.

● Газды біркелкі тарату және реакцияны бақылау

Химиялық бумен тұндыру (CVD), газ тарату тақтасы ретінде, тері тесігі жұқа пленкалық тұндырудың біркелкілігін жақсарту үшін біркелкі көліктік реактивті газдар (мысалы, Sih₄, NH₃) үшін пайдаланылады.

Құрғақ мөлшерде, кеуекті құрылым плазмалық үлестіруді оңтайландырады және дәлдікті жақсартады.

● Электростатикалық Чак (ESC) негізгі компоненттері

Кеуекті SIC электростатикалық Чак сусцийі ретінде қолданылады, ол вакуумдық адсорбцияға микрокомдар арқылы қолданылады, олар вакуумдық адсорбцияға қол жеткізеді, вафлиді дәл анықтайды және плазмалық бомбалауға төзімді және ұзақ қызмет ету мерзімі бар.

● Коррозияға төзімді компоненттер

Ылғалмен және тазалағыш жабдықтардың қуысымен пайдаланылған, ол қатты қышқылдармен коррозияға қарсы тұрады (мысалы, H₂SO₄, HNO₃) және күшті сілтілер (мысалы, ког).

● Жылу өрісі біркелкілікті басқару

Бір кристалды кристалды кремнийдің өсуі (мысалы, цочральск әдісі), жылу қалқаны немесе қолдау ретінде, оның жоғары жылулық өрістерін сақтау және тордың ақауларын азайту үшін жоғары жылу тұрақтылығы қолданылады.

● Сүзу және тазарту

Кеуекті құрылым бөлшектік ластаушы заттарды ұстап алады және процесстің тазалығын қамтамасыз ету үшін ультра таза газ / сұйық жеткізу жүйелерінде қолданылады.

Дәстүрлі материалдардан артықшылықтар