Жаңалықтар

Жаңалықтар

Біз сіздермен жұмысымыздың нәтижелерімен, компания жаңалықтарымен бөлісуге және уақтылы әзірлемелерді, персоналды тағайындау және жұмыстан шығару шарттарын ұсынуға қуаныштымыз.
3C SIC дамыту тарихы29 2024-07

3C SIC дамыту тарихы

Үздіксіз технологиялық прогресс пен механизмді терең зерттеу арқылы 3C-SiC гетероэпитаксиалды технологиясы жартылай өткізгіштер өнеркәсібінде маңызды рөл атқарады және жоғары тиімді электронды құрылғылардың дамуына ықпал етеді деп күтілуде.
ALD атом қабатын тұндыру рецепті27 2024-07

ALD атом қабатын тұндыру рецепті

Кеңістіктік ALD, кеңістікте оқшауланған атом қабатының тұнбасы. Вафли әртүрлі позициялар арасында жылжиды және әр позицияда әртүрлі прекурсорларға ұшырайды. Төмендегі сурет дәстүрлі ALD мен кеңістікте оқшауланған ALD арасындағы салыстыру болып табылады.
Тантал көмірсутегі технологиясы, SIC Epitaxial ластануы 75% төмендеді ме?27 2024-07

Тантал көмірсутегі технологиясы, SIC Epitaxial ластануы 75% төмендеді ме?

Жақында неміс ғылыми-зерттеу институты Fraunhofer IISB тантал көлігінің жабыны технологиясын зерттеу мен игеруге серпіліс жасады және CVD-дің тұндыру шешіміне қарағанда икемді және экологиялық таза, бұл икемді және экологиялық таза, бұл икемді және экологиялық таза.
Жартылай өткізгіш өнеркәсіпте 3D басып шығару технологиясын барлау қолдану19 2024-07

Жартылай өткізгіш өнеркәсіпте 3D басып шығару технологиясын барлау қолдану

Жылдам технологиялық даму дәуірінде 3D басып шығару, алдыңғы қатарлы өндірістік технологияның маңызды өкілі ретінде дәстүрлі өндірістің бетін өзгертуде. Технологиялардың үздіксіз жетілуімен және шығындарды азайту, 3D басып шығару технологиясы көптеген салаларда аэроғарыш, автомобиль өндірісі, медициналық жабдықтар және сәулет дизайны, және осы салалардың дамуына ықпал етті.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept